Sorar, İdrisSarıgül, Hasan2024-05-282024-05-282015https://tez.yok.gov.tr/UlusalTezMerkezi/TezGoster?key=vbVkXe1KChYWNElr1MuLZn6IkUD0LDVLsZqT_fapgDYS7HSHt58H_FVI14bxJnF1https://hdl.handle.net/20.500.12483/6721Bu çalışmada sol-jel kaplama yöntemi kullanılarak Corning cam ve ITO altlıklar üstüne titanyum dioksit (TiO2) filmleri kaplanmıştır. Kaplama işlemi için oluşturulan çözelti uygun miktarda titanyum (IV) n-bütoksit, asetik asit ve etanol içermektedir. Filmlerin taşıyıcılar üstüne kaplanmasında 2000 devir/dakika hızında döndürerek kaplama yöntemi kullanılmıştır. Filmler çeşitli sıcaklıklarda ısıl işleme tabi tutulmuş ve analiz edilmişlerdir. Filmlerin yapısal analizi X-ışınları kırınımı kullanılarak yapılmıştır. 1, 3 ve 5 katlı olarak Corning cam üzerine hazırlanan ve 200 oC, 300 oC ve 500 oC' de ısıl işleme tabi tutulan TiO2 filmlerin amorf yapıda olduğu belirlenmiştir. Amorf TiO2 filmlerin yasak enerji aralığının 3,78 eV ile 4,06 eV arasında değiştiği hesaplanmıştır. Diğer taraftan 7-katlı olarak hazırlanan ve 500 oC' de ısıl işleme tabi tutulan filmin ise anataz kristal yapısında olduğu bulunmuştur. Bu filmlerin yasak enerji aralığı 3,82 eV bulunmuştur. Optik ölçümlerde filmlerin yüksek geçirgenliğe sahip olduğu belirlenmiştir. Ölçümlerde farklı konsantrasyonlara sahip KOH elektroliti, karşıt elektrot olarak platin tel, referans elektrot olarak Ag/AgCl elektrot ve çalışma elektrodu olarak kaplanan TiO2 filmler kullanılmıştır. Filmler katodik elektrokromik renklenme göstermiştir.In this study thin films of titanium dioxide (TiO2) were prepared on Corning glass and ITO substrates by sol-gel method. The solution prepared for coating have an amount of mixture of titanium (IV) n-butoxide, acetic acid and ethanol. Preparation of the films on the substrates were made by spin coating method at 2000 rpm. Following an heat treatment at various temperatures, films were characterized. The structural analyses of the films were done through X-ray diffraction. 1, 3 and 5 layers of TiO2 films prepared on Corning glass and annealed at 200 oC, 300 oC and 500 oC were found to be amorphous. Band gap of amorphous TiO2 films changes between 4,06 eV and 3,78 eV. However, 7 layer-prepared film annealed at 500 oC was found to be crystalline anatase phase. Band gap of the crystalline films was found to be 3,82 eV. Optical measurement showed that films have high transperancy. Electrochromic measurements were made by using Ag/AgCl as reference electrode, platinum wire as counter electrode and TiO2 as working electrode in different molarities of KOH solution. Films showed cathodic electrochromic coloration.turinfo:eu-repo/semantics/openAccessFizik ve Fizik MühendisliğiPhysics and Physics EngineeringMaster Thesis177499550